防爆有机热载体炉
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来源:成都珞石机械浏览:444 发布日期:2023-10-17 15:38
光刻胶是一种高分子化合物,主要用于微电子制造中的光刻工艺。光刻胶的质量直接影响了微型器件的性能和稳定性,因此需要严格控制其生产过程中的温度和压力。
客户是一家从事半导体材料研发和生产的企业,客户在生产光刻胶时,需要使用高温高压的反应釜。光刻胶防爆模温机是一种用于高温高压环境下的温度控制设备,具有整机隔离式防爆 EXdII BT4,符合国际标准,可以在易燃易爆的场所安全使用。PLC编程控制,可以根据不同的工艺要求设定温度、压力、流量等参数。
带冷却功能,可以在反应放热时及时降低温度,避免过热或烧坏设备。
设计1 平方( 板式换热器 ),可以提高换热效率,节省能源和空间。
使用时需要将原料加入反应釜中,启动光刻胶防爆模温机,设定温度为150度,开始反应过程,光刻胶防爆模温机通过循环泵将热油输送到反应釜中,提供所需的热量。
反应期间,光刻胶防爆模温机通过PLC控制系统实时检测反应釜内的温度、压力、流量等数据,并根据设定值进行调节。
当反应放热时,光刻胶防爆模温机通过冷却水将多余的热量带走,保持反应釜内的温度稳定。反应完成后,关闭光刻胶防爆模温机,将光刻胶从反应釜中取出。
光刻胶防爆模温机是一种适用于高温高压环境下的温度控制设备,它可以有效地满足光刻胶生产的要求,提高产品的质量和效率。
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