制造高品质的光刻胶，使用光刻胶防爆模温机

来源：成都珞石机械浏览：444 发布日期：2023-10-17 15:38

光刻胶是一种高分子化合物，主要用于微电子制造中的光刻工艺。光刻胶的质量直接影响了微型器件的性能和稳定性，因此需要严格控制其生产过程中的温度和压力。

客户是一家从事半导体材料研发和生产的企业，客户在生产光刻胶时，需要使用高温高压的反应釜。光刻胶防爆模温机是一种用于高温高压环境下的温度控制设备，具有整机隔离式防爆 EXdII BT4，符合国际标准，可以在易燃易爆的场所安全使用。PLC编程控制，可以根据不同的工艺要求设定温度、压力、流量等参数。

带冷却功能，可以在反应放热时及时降低温度，避免过热或烧坏设备。

设计1 平方( 板式换热器 )，可以提高换热效率，节省能源和空间。

使用时需要将原料加入反应釜中，启动光刻胶防爆模温机，设定温度为150度，开始反应过程，光刻胶防爆模温机通过循环泵将热油输送到反应釜中，提供所需的热量。

反应期间，光刻胶防爆模温机通过PLC控制系统实时检测反应釜内的温度、压力、流量等数据，并根据设定值进行调节。

当反应放热时，光刻胶防爆模温机通过冷却水将多余的热量带走，保持反应釜内的温度稳定。反应完成后，关闭光刻胶防爆模温机，将光刻胶从反应釜中取出。

光刻胶防爆模温机是一种适用于高温高压环境下的温度控制设备，它可以有效地满足光刻胶生产的要求，提高产品的质量和效率。


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